簡要描述:NS200國產(chǎn)臺階膜厚儀主要用于臺階高、膜層厚度、表面粗糙度等微觀形貌參數(shù)的測量。其采用LVDC電容傳感器,具有的亞埃級分辨率和超微測力等特點(diǎn)使得其在ITO導(dǎo)電薄膜厚度的測量上具有很強(qiáng)的優(yōu)勢。
詳細(xì)介紹
品牌 | 中圖儀器 | 產(chǎn)地 | 國產(chǎn) |
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加工定制 | 否 |
NS200國產(chǎn)臺階膜厚儀主要用于臺階高、膜層厚度、表面粗糙度等微觀形貌參數(shù)的測量。其采用LVDC電容傳感器,具有的亞埃級分辨率和超微測力等特點(diǎn)使得其在ITO導(dǎo)電薄膜厚度的測量上具有很強(qiáng)的優(yōu)勢。針對測量ITO導(dǎo)電薄膜的應(yīng)用場景,NS200臺階儀提供如下便捷功能:
1)結(jié)合了360°旋轉(zhuǎn)臺的全電動載物臺,能夠快速定位到測量標(biāo)志位;
2)對于批量樣件,提供自定義多區(qū)域測量功能,實(shí)現(xiàn)一鍵多點(diǎn)位測量;
3)提供SPC統(tǒng)計(jì)分析功能,直觀分析測量數(shù)值變化趨勢;
NS200國產(chǎn)臺階膜厚儀應(yīng)用場景適應(yīng)性強(qiáng),其對被測樣品的反射率特性、材料種類及硬度等均無特殊要求,能夠廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、太陽能光伏、光學(xué)加工、LED、MEMS器件、微納材料制備等各行業(yè)領(lǐng)域內(nèi)的工業(yè)企業(yè)與高校院所等科研單位,其對表面微觀形貌參數(shù)的準(zhǔn)確表征,對于相關(guān)材料的評定、性能的分析與加工工藝的改善具有重要意義。
1.參數(shù)測量功能
1)臺階高度:能夠測量納米到330μm甚至1000μm的臺階高度,可以準(zhǔn)確測量蝕刻、濺射、SIMS、沉積、旋涂、CMP等工藝期間沉積或去除的材料;
2)粗糙度與波紋度:能夠測量樣品的粗糙度和波紋度,分析軟件通過計(jì)算掃描出的微觀輪廓曲線,可獲取粗糙度與波紋度相關(guān)的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等20余項(xiàng)參數(shù);
3)翹曲與形狀:能夠測量樣品表面的2D形狀或翹曲,如在半導(dǎo)體晶圓制造過程中,因多層沉積層結(jié)構(gòu)中層間不匹配所產(chǎn)生的翹曲或形狀變化,或者類似透鏡在內(nèi)的結(jié)構(gòu)高度和曲率半徑。
2.數(shù)采與分析系統(tǒng)
1)自定義測量模式:支持用戶以自定義輸入坐標(biāo)位置或相對位移量的方式來設(shè)定掃描路徑的測量模式;
2)導(dǎo)航圖智能測量模式:支持用戶結(jié)合導(dǎo)航圖、標(biāo)定數(shù)據(jù)、即時圖像以智能化生成移動命令方式來實(shí)現(xiàn)掃描的測量模式。
3)SPC統(tǒng)計(jì)分析:支持對不同種類被測件進(jìn)行多種指標(biāo)參數(shù)的分析,針對批量樣品的測量數(shù)據(jù)提供SPC圖表以統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)的變化趨勢。
3.光學(xué)導(dǎo)航功能
配備了500W像素的彩色相機(jī),可實(shí)時將探針掃描軌跡的形貌圖像傳輸?shù)杰浖酗@示,進(jìn)行即時的高精度定位測量。
4.樣品空間姿態(tài)調(diào)節(jié)功能
配備了精密XY位移臺、360°電動旋轉(zhuǎn)平臺和電動升降Z軸,可對樣品的XYZ、角度等空間姿態(tài)進(jìn)行調(diào)節(jié),提高測量精度及效率。
型號 | NS200 |
測量技術(shù) | 探針式表面輪廓測量技術(shù) |
樣品觀察 | 光學(xué)導(dǎo)航攝像頭:500萬像素高分辨率 彩色攝像機(jī),FoV,2200*1700μm |
探針傳感器 | 超低慣量,LVDC傳感器 |
平臺移動范圍X/Y | 電動X/Y(150mm*150mm)(可手動校平) |
單次掃描長度 | 55mm |
樣品厚度 | 50mm |
載物臺晶圓尺寸 | 150mm(6吋),200mm(8吋) |
臺階高度重復(fù)性 | 5 ?, 量程為330μm時/ 10 ?, 量程為1mm時(測量1μm臺階高度,1δ) |
尺寸(L×W×H)mm | 640*626*534 |
重量 | 40kg |
儀器電源 | 100-240 VAC,50/60 Hz,200W |
相對濕度:濕度 (無凝結(jié))30-40% RH
溫度:16-25℃ (每小時溫度變化小于2℃)
地面振動:6.35μm/s(1-100Hz)
音頻噪音:≤80dB
空氣層流:≤0.508 m/s(向下流動)
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